在(100)硅上制作边沿<100>晶向的长方形掩模

用KOH各向异性腐蚀液腐蚀可制得竖直微镜

这种微镜存在凸角削角问题。研究了边沿<100>晶向掩模的凸角补偿技术

提出了2种凸角补偿图形

并应用于竖直微镜制作。实验表明“工”形补偿可获得方正的反射面;“Y”形补偿的微镜

反射面呈底角为75.96°的梯形。经补偿后的微镜

可提高光开关切换光束效率。讨论了(100)硅的<100>晶向掩模凸角补偿技术应用于微机械加速度计质量块制作的可能性。