电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究

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电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究

更新时间：2025-09-11

- 电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究
- Issue 4, Pages: 86-88(2005)
- 作者机构：
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13873/j.1000-97872005.04.032
  CLC： TN405
- Published：2005
- 稿件说明：
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[J]. 2005, (4): 86-88.
DOI：

[J]. 2005, (4): 86-88. DOI： 10.13873/j.1000-97872005.04.032.

摘要

牺牲层腐蚀技术结合MEMS技术是制作三维可动微机构的一个重要加工手段。采用电位控制的电化学释放牺牲层技术

对2种不同刻蚀液下的Cu/Ni叠层结构分别进行了电化学腐蚀

并测量了其伏安特性

结果表明:电位控制的电化学腐蚀能很好地进行有选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层。

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