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射频磁控溅射制备二氧化锡薄膜的气敏特性
更新时间:2025-09-11
    • 射频磁控溅射制备二氧化锡薄膜的气敏特性

    • Issue 3, Pages: 53-56(2023)
    • DOI:10.13873/J.1000-9787(2023)03-0053-04    

      CLC: TB383.2;TQ134.32
    • Published:2023

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  • [J]. 2023, (3): 53-56. DOI: 10.13873/J.1000-9787(2023)03-0053-04.

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