钼掺杂降低TiO<sub>2</sub>氧敏薄膜最佳工作温度研究

程东升; 孙以材; 潘国锋; 袁育杰

doi:10.13873/j.1000-97872006.07.005

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钼掺杂降低TiO₂氧敏薄膜最佳工作温度研究

更新时间：2025-09-11

- 钼掺杂降低TiO₂氧敏薄膜最佳工作温度研究
- Research on reducing best operating temperature of TiO₂ thin films through doping Mo
- 传感器与微系统 2006年第7期页码：15-17
- 作者机构：
  
  1. 河北工业大学信息工程学院
  2. 河北工业大学信息工程学院,天津,300130
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13873/j.1000-97872006.07.005
  中图分类号： TN304
- 纸质出版：2006
- 稿件说明：
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[1]程东升,孙以材,潘国锋,袁育杰.钼掺杂降低TiO_2氧敏薄膜最佳工作温度研究[J].传感器与微系统,2006(07):15-17.

CHENG Dong-sheng, SUN Yi-cai, PAN Guo-feng, et al. Research on reducing best operating temperature of TiO₂ thin films through doping Mo[J]. 2006, (7): 15-17.
[1]程东升,孙以材,潘国锋,袁育杰.钼掺杂降低TiO_2氧敏薄膜最佳工作温度研究[J].传感器与微系统,2006(07):15-17. DOI： 10.13873/j.1000-97872006.07.005.

CHENG Dong-sheng, SUN Yi-cai, PAN Guo-feng, et al. Research on reducing best operating temperature of TiO₂ thin films through doping Mo[J]. 2006, (7): 15-17. DOI： 10.13873/j.1000-97872006.07.005.

摘要

用直流反应磁控溅射法在陶瓷基片上制备出TiO2薄膜。并进行1 100℃

2 h的退火处理。配置钼酸铵溶液

利用浸渍法处理TiO2薄膜若干时间。取出后

进行500℃

3 h退火处理。用气敏测试箱对制备出的TiO2薄膜的氧敏特性进行试验测试

发现对氧气有很好的敏感特性

比未经此项工艺处理的TiO2薄膜的最佳工作温度降低100℃

为300℃左右

并进行SEM测试

分析其表面结构

研究气敏机理。

Abstract

TiO

thin films are preparated on alumina substrates by the method of DC reactive magnetron sputtering.Annealing is carried out at 1 100 ℃ for 2 h.Put them into the ammonium molybdate solution and then annealed at（500 ℃） for 3 h.The thin films have better oxygn-sensing properties.The best operating temperature droped 100 ℃ than undoped TiO

thin films

it’s about 300 ℃.The SEM testing is carried out

the surface structure of the thin films is analysed

and the mechanism of the thin films oxygen-sensing properties is investigated.

关键词

Keywords

references

热处理时间对三氧化钼在MCM-41表面分散状态的影响 [J]. 李正平,高濂,郑珊. 无机材料学报 . 2002(05)

反应溅射法制备TiO 2 薄膜 [J]. 赵坤,朱凤,王莉芳,孟铁军,张保澄,赵夔. 物理学报 . 2001(07)

钼酸铵的热分解机理研究 [J]. 朱伯仲,林钰,尚雪亚,刘双月,李新生. 兰州大学学报 . 1997(03)

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钼掺杂降低TiO2氧敏薄膜最佳工作温度研究

Research on reducing best operating temperature of TiO2 thin films through doping Mo

DOI：10.13873/j.1000-97872006.07.005

摘要

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钼掺杂降低TiO₂氧敏薄膜最佳工作温度研究

Research on reducing best operating temperature of TiO₂ thin films through doping Mo