热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响

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更新时间：2025-09-11

- 热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响
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- 传感器与微系统 2005年第7期页码：27-28+31
- 作者机构：
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金资助项目(69971007,69890227)
- DOI：10.13873/j.1000-97872005.07.010
  中图分类号： TG156
- 纸质出版：2005
- 稿件说明：
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热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响[J]. 传感器与微系统, 2005,(7):27-28+31.
热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响[J]. 传感器与微系统, 2005,(7):27-28+31. DOI： 10.13873/j.1000-97872005.07.010.

DOI：

利用离子束溅射镀膜技术

在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr薄膜

制备了一种新型的压力传感器用合金薄膜。分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响

对NiCr薄膜电阻进行了4种热处理工艺

获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数在SiOx和N2的保护下

673K退火1h

并在473K下保温24h。用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器。

吕惠民,田敬民.压力传感器的研究现状与发展趋势[J].半导体技术,1998(02).

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