国外高深宽比微细结构制造技术的发展

doi:10.13873/j.1000-97872004.12.002

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国外高深宽比微细结构制造技术的发展

更新时间：2025-09-11

- 国外高深宽比微细结构制造技术的发展
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- 传感器与微系统 2004年第12期页码：4-6+13
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- DOI：10.13873/j.1000-97872004.12.002
  中图分类号： TN405
- 纸质出版：2004
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国外高深宽比微细结构制造技术的发展[J]. 传感器与微系统, 2004,(12):4-6+13.
国外高深宽比微细结构制造技术的发展[J]. 传感器与微系统, 2004,(12):4-6+13. DOI： 10.13873/j.1000-97872004.12.002.

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摘要

介绍了国外近年来高深宽比微细结构制造技术的最新发展

其中包括LIGA、准LIGA、深层反应离子刻蚀等主要高深宽比微细结构技术的具体研究现状和研究进展

还介绍了电化学沉积加工、质子束光刻、准LIGA与Si等离子刻蚀复合加工、局部电化学沉积、立体光固化微加工、微细电解加工等一些新发展的高深宽比微细结构技术。

Abstract

关键词

Keywords

references

J.A. van Kan,J. L. Sanchez,T. Osipowicz,F. Watt.Proton micromachining: a new technique for the production of three-dimensional microstructures[J].Microsystem technologies,2000.

S. K. Griffiths,A. Ting,J. M. Hruby.The influence of mask substrate thickness on exposure and development times for the LIGA process[J].Microsystem technologies,2000.

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