纸质出版:2004
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稀土Nd掺杂纳米ZnO薄膜气敏特性[J]. 传感器与微系统, 2004,(5):9-11+14.
稀土Nd掺杂纳米ZnO薄膜气敏特性[J]. 传感器与微系统, 2004,(5):9-11+14. DOI: 10.13873/j.1000-97872004.05.003.
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研究了用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备掺稀土Nd的ZnO薄膜的气敏特性
实验给出
经温度为500℃
时间为45min的氧化、热处理的掺Nd的ZnO薄膜的晶粒尺寸、结构特性均发生变化。随掺Nd质量分数的增大
薄膜的晶粒尺寸从53nm减小至20nm。经掺Nd(质量分数为4.96×10-2)后纳米ZnO薄膜对乙醇气体的选择性和灵敏性均得到明显的改善。在1.5×10-3体积分数的乙醇气体中最高灵敏度为34
相应的薄膜工作温度为200℃。
李永生,杨莉玲.半导体气敏元件的选择性研究[J].仪表技术与传感器,2003(03).
李健,李海兰,田野,宋淑芳.掺杂和热处理对纳米ZnO薄膜气敏特性影响[J].传感器技术,2002(03).
李来风,潘晓晴.稀土氧化物掺杂对SnO_2基气体传感器材料性能的影响(英文)[J].材料研究学报,2000(01).
张义华,王学勤,王祥生,牛德芳.纳米SnO_2的制备及其气敏特性分析[J].传感器技术,1999(06).
徐毓龙,周晓华,曹全喜.氧化物半导体的表面过程与气敏机理[J].传感器技术,1991(06).
许振嘉编著.近代半导体材料的表面科学基础[M].北京大学出版社,2002.
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