纸质出版:2003
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W/WO3/Nafion新型pH修饰电极的研究及其应用[J]. 传感器与微系统, 2003,(7):15-18.
W/WO3/Nafion新型pH修饰电极的研究及其应用[J]. 传感器与微系统, 2003,(7):15-18. DOI: 10.13873/j.1000-97872003.07.006.
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讨论了一种新型pH修饰电极的制备及其应用。将钨(W)电极放置于2 0mol/LH2SO4中
在1 0~2 0V的电位区间内进行电化学氧化
通过该方法在W电极表面生成三氧化钨(WO3)膜。为了排除样品中的污染
在W/WO3电极表面涂敷了一层Nafion(全氟化离子交换剂)膜。该W/WO3/Nafion修饰电极在pH值2.0~12.0的范围内有良好的线性关系
能斯特(Nernstian)斜率为(-53.5±0.5)mV/pH;该电极对pH值6 0~7.0范围内的缓冲溶液响应时间为3s左右;同时
对pH测量过程中的干扰离子、稳定性、寿命和重现性等问题也进行了讨论。最后
还将该修饰pH电极用于多种饮料中pH水平的测定
并和常规的pH玻璃电极进行了比较
获得满意的结果。
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