微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术

金鹏; 谭久彬; 刘岩

doi:10.13873/j.1000-97872001.03.018

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微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术

更新时间：2025-09-11

- 微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术
- Microfabrication of silicon nitride film applied in microsensor
- 传感器与微系统 2001年第3期页码：51-53
- 作者机构：
  
  1. 哈尔滨工业大学自动化测试及控制系,黑龙江,哈尔滨,150001
  2. 黑龙江广播电视大学,黑龙江,哈尔滨,150080
  3. 哈尔滨工业大学自动化测试及控制系!黑龙江哈尔滨150001黑龙江广播电视大学,黑龙江,哈尔滨,150080
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13873/j.1000-97872001.03.018
  中图分类号： TP212
- 纸质出版：2001
- 稿件说明：
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[1]金鹏,谭久彬,刘岩.微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术[J].传感器技术,2001(03):51-53.

JIN Peng 1, TAN Jiu-bin 1, LIU Yan 2. Microfabrication of silicon nitride film applied in microsensor[J]. 2001, (3): 51-53.
[1]金鹏,谭久彬,刘岩.微型传感器中氮化硅薄膜的微加工技术[J].传感器技术,2001(03):51-53. DOI： 10.13873/j.1000-97872001.03.018.

JIN Peng 1, TAN Jiu-bin 1, LIU Yan 2. Microfabrication of silicon nitride film applied in microsensor[J]. 2001, (3): 51-53. DOI： 10.13873/j.1000-97872001.03.018.

摘要

简要介绍了基于磁控射频溅射技术的Si3 N4 薄膜沉积技术及Si3 N4 薄膜基于剥离（lift-off）技术的微加工技术。实验结果表明该技术适用于微型传感器及MEMS中绝缘薄膜的加工

Abstract

The depositon of silicon nitride film based on RF magnetron-sputtering and the micorfabrication of silicon nitride film based on lift-off technique are described in this article. The experiment result showed that it is an effective method of Si 3N 4 film’s fabrication for microsensor and MEMS purpose.

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Microfabrication of silicon nitride film applied in microsensor

DOI：10.13873/j.1000-97872001.03.018

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