Chinese
您当前的位置：
首页 >
文章列表页 >
双层气敏薄膜的Ar+刻蚀及电学行为
更新时间：2025-09-11

    • 双层气敏薄膜的Ar+刻蚀及电学行为

    • 暂无标题

    • 传感器与微系统   1997年第5期 页码：20-22

    • DOI：10.13873/j.1000-97871997.05.007    

      中图分类号： TN304.055

    • 纸质出版：1997

    移动端阅览

  • 双层气敏薄膜的Ar+刻蚀及电学行为[J]. 传感器与微系统, 1997,(5):20-22. DOI： 10.13873/j.1000-97871997.05.007.

  •  
  •  
icon
试读结束，您可以激活您的VIP账号继续阅读。
去激活 >
icon
试读结束，您可以通过登录账户，到个人中心，购买VIP会员阅读全文。
已是VIP会员？
去登录 >

0

浏览量

0

下载量

0

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

45°倾斜应用的多通道干涉截止滤光片研制
薄膜干涉型光纤温度传感器的偏振特性
MEMS电镀金属掩模工艺研究
新型InSb-In薄膜磁阻式振动传感器的设计
TiO2系薄膜型氧敏材料的研究与发展综述

相关作者

高晓丹
刘岚
姚敏
魏纯
高晓丹
刘岚
姚敏
魏纯

相关机构

武汉东湖学院电子信息工程学院
中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室
中北大学机电工程学院
华南师范大学华南量子电子学研究所
国营4322厂
0