纸质出版:1993
移动端阅览
绝缘层上硅膜-红外区熔再结晶过程中熔区的检测[J]. 传感器与微系统, 1993,(6):1-4.
绝缘层上硅膜-红外区熔再结晶过程中熔区的检测[J]. 传感器与微系统, 1993,(6):1-4. DOI: 10.13873/j.1000-97871993.06.001.
DOI:
硅片上熔区温度的检测
是实现SOI(Silicon-on-Insulator)材料结构的区熔再结晶(ZMR)工艺的技术关键
也是技术难点之一.提供了一种适用于特定实验环境(高频、高压、高温)的具有特殊功能(高分辨率、易于瞄准)的光纤测温计
对于提高ZMR工艺的稳定性
可控性和良好的重复性具有重要意义.
0
浏览量
下载量
CSCD
关联资源
相关文章
相关作者
相关机构