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四次曝光制版技术及其应用[J]. 传感器与微系统, 1990,(4):40-11.
四次曝光制版技术及其应用[J]. 传感器与微系统, 1990,(4):40-11. DOI: 10.13873/j.1000-97871990.04.013.
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一、前言 在半导体压力传感器研制中
应变电阻的设计方案常采用图1中给出的类型。无论采用哪种设计方案
在刻制电阻时
都要求四个应变电阻的阻值在理论上是一致的。因为四个电阻的一致性直接影响着零点输出
零点温度漂移、灵敏度温度漂
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