复旦大学电子工程系
纸质出版:1987
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吴宪平. (100)硅各向异性腐蚀中残留物的研究[J]. 传感器与微系统, 1987,(Z1):79-80.
吴宪平. (100)硅各向异性腐蚀中残留物的研究[J]. 传感器与微系统, 1987,(Z1):79-80. DOI: 10.13873/j.1000-97871987.z1.157.
DOI:
在硅的各向异性腐蚀工艺中获取平整而光滑的表面至关重要。与联氨水溶液或氢氧化钾水溶液相比
乙二胺-邻苯二酚水溶液(简称EPW)对(100)硅的腐蚀表面更为平整光滑
但当一定量的EPW溶液腐蚀了相当量的硅以后
在被腐蚀表面上尤其在其边角处可能出现一种白色残留物的沉积
由此而破坏被腐蚀硅表面的平整度和光滑度
该种残留物是不同于
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