纸质出版:1987
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光敏CdTe多晶薄膜研制[J]. 传感器与微系统, 1987,(Z1):24-25.
光敏CdTe多晶薄膜研制[J]. 传感器与微系统, 1987,(Z1):24-25. DOI: 10.13873/j.1000-97871987.z1.043.
DOI:
薄膜制备分别用电子束和电阻加热的方法真空蒸发制备了CdTe薄膜。真空度为1~5×10
-5
蒸发源采用钼舟内放入纯度为99.999%的本征CdTe单晶块
由于我们采用的是CdTe单晶的边角料
纯度虽高
但成本较低;基板采用经过清洗处理的微晶玻璃片;
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