纸质出版:1987
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中科院上海冶金所研制的二氯二氢硅通过市级鉴定[J]. 传感器与微系统, 1987,(4):30.
中科院上海冶金所研制的二氯二氢硅通过市级鉴定[J]. 传感器与微系统, 1987,(4):30. DOI: 10.13873/j.1000-97871987.04.007.
DOI:
二氯二氢硅(Sicl
2
H
)是一种新型的外延沉积源
比Sicl
4
外延沉积温度低
外延层质量高
是目前国内半导体器件科研和生产单位急需的一种气态源
它还可以用于制备高均匀度的氧化层
廉价太阳能电池和用于生产Si
3
N
薄膜的气态源
具
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