本文论述了用于固态传感制备的〈100〉和〈110〉晶向硅片各向异性腐蚀的特点和机理;对掩模图形边缘取向和(100)硅矩形台而凸角处的削角现象进行了探讨;对各种各向异性腐蚀剂的配方与性能进行了对比;并列腐蚀残留物成分与形成条件进行了分析与研究。