基于SU—8光刻胶的微光学元件制备工艺研究

鹿胜康; 唐波; 陈伟; 郜晚蕾; 金庆辉

doi:10.13873/J.1000-9787(2022)11-0022-05

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基于SU—8光刻胶的微光学元件制备工艺研究

研究与探讨 | 更新时间：2025-09-11

- 基于SU—8光刻胶的微光学元件制备工艺研究
- 暂无标题
- 传感器与微系统 2022年第11期页码：22-26
- 作者机构：
  
  1. 宁波大学信息科学与工程学院
  2. 中国计量大学计量测试工程学院
  3. 宁波水表(集团)股份有限公司
  4. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13873/J.1000-9787(2022)11-0022-05
  中图分类号： TP212;TN305.7
- 纸质出版：2022
- 稿件说明：
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鹿胜康, 唐波, 陈伟, 等. 基于SU—8光刻胶的微光学元件制备工艺研究[J]. 传感器与微系统, 2022,(11):22-26.
鹿胜康, 唐波, 陈伟, 等. 基于SU—8光刻胶的微光学元件制备工艺研究[J]. 传感器与微系统, 2022,(11):22-26. DOI： 10.13873/J.1000-9787(2022)11-0022-05.

DOI：

摘要

面向光学传感器微型化需求，针对传统光学元件体积偏大和不易集成等问题，探索了使用SU—8光刻胶制备聚合物微型透镜等光学元件的全套制备工艺。对工艺中存在的问题进行逐一解决，创新性地使用长时间45℃低温前烘技术解决了厚SU—8结构制备过程中易脱落和侧壁均匀程度差的问题。并根据光刻胶使用场景的不同，给出了在平面结构上的甩胶和沟槽结构中的喷胶工艺参数及方法，为光学元件微型化提供了解决方案。经过显微镜和台阶仪测试，平面结构上SU—8光刻胶最大制备厚度可达180μm

沟槽结构中使用喷胶工艺制备厚度可达200μm以上，结构厚180μm时，侧壁顶部与底部最大线宽差小于2μm

使用光学平台和激光器对微光学元件进行了简单测试，均符合设计预期。

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DOI：10.13873/J.1000-9787(2022)11-0022-05

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