热纳米压印技术的研究进展

韩丽娟; 孙洪文; 殷敏琪; 王海滨

doi:10.13873/J.1000-9787(2019)04-0001-03

Chinese

您当前的位置：

首页 >

文章列表页 >

热纳米压印技术的研究进展

综述与评论 | 更新时间：2025-09-11

- 热纳米压印技术的研究进展
- Research development of thermal nanoimprint lithography technology
- 传感器与微系统 2019年第4期页码：1-3+7
- 作者机构：
  
  河海大学物联网工程学院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13873/J.1000-9787(2019)04-0001-03
  中图分类号： TN305.7
- 纸质出版：2019
- 稿件说明：
移动端阅览
韩丽娟, 孙洪文, 殷敏琪, 等. 热纳米压印技术的研究进展[J]. 传感器与微系统, 2019,(4):1-3+7.

HAN Li-juan, SUN Hong-wen, YIN Min-qi, et al. Research development of thermal nanoimprint lithography technology[J]. 2019, (4): 1-3+7.
韩丽娟, 孙洪文, 殷敏琪, 等. 热纳米压印技术的研究进展[J]. 传感器与微系统, 2019,(4):1-3+7. DOI： 10.13873/J.1000-9787(2019)04-0001-03.

HAN Li-juan, SUN Hong-wen, YIN Min-qi, et al. Research development of thermal nanoimprint lithography technology[J]. 2019, (4): 1-3+7. DOI： 10.13873/J.1000-9787(2019)04-0001-03.

摘要

介绍了热纳米压印(T-NIL)的要素制备、工艺流程

分析了温度、压力、时间等因素对T-NIL技术的影响。针对这些因素

阐述了T-NIL技术的最新研究进展

包括抗粘连处理方法、加热加压方式、模具及光刻胶材料的选择、T-NIL设备等。介绍了T-NIL技术在不同领域的应用。

Abstract

The preparation of key elements and technological process of thermal nanoimprint lithography（ T-NIL）are introduced. The effects of temperature

pressure and time on thermal nanoimprint lithography technology are analyzed. The latest research progress of thermal nanoimprint lithography technology

including anti-adhesion treatment method

heating and pressurization method

the selection of mould and photoresist materials and T-NIL equipment are described. Applications of thermal nanoimprint lithography technology in different fields are introduced.

关键词

Keywords

references

浏览量

843

下载量

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。

提交

工具集

关联资源

ICP深硅刻蚀工艺掩模的研究

采用SU—8胶制作模具的工艺研究

激光干涉光刻工艺开发与应用研究