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基于非均匀旋转的半监督晶圆图缺陷模式识别方法
设计与制造 | 更新时间:2026-04-17
    • 基于非均匀旋转的半监督晶圆图缺陷模式识别方法

    • Semi-supervised wafer map defect pattern recognition method based on non-uniform rotation

    • 传感器与微系统   2026年45卷第4期 页码:89-95
    • 中图分类号: TN407;TP391
    • 纸质出版:2026

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  • 胡晓晗, 陈田, 梁华国, 等. 基于非均匀旋转的半监督晶圆图缺陷模式识别方法[J]. 传感器与微系统, 2026,45(4):89-95. DOI:

    HU Xiaohan, CHEN Tian, LIANG Huaguo, et al. Semi-supervised wafer map defect pattern recognition method based on non-uniform rotation[J]. 2026, 45(4): 89-95. DOI:

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