微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究

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微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究

更新时间：2025-09-11

- 微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究
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- 传感器与微系统 1996年第6期页码：7
- 作者机构：
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  中图分类号： TN304
- 纸质出版：1996
- 稿件说明：
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微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究[J]. 传感器与微系统, 1996,(6):7.
微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究[J]. 传感器与微系统, 1996,(6):7. DOI：

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摘要

针对微型双岛硅膜制作中的凸角削角腐蚀问题，提出了一种新的削角补偿方法一“两端矩形补偿法”，并在感压膜尺寸仅为０．７２ｍｍ×１ｍｍ的双岛硅膜制作中获得成功。

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