微系统技术（连载三）──光刻工艺

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微系统技术（连载三）──光刻工艺

更新时间：2025-09-11

- 微系统技术（连载三）──光刻工艺
- 暂无标题
- 传感器与微系统 1995年第6期页码：20
- 作者机构：
  
  东北传感技术研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： TP212
- 纸质出版：1995
- 稿件说明：
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张光照. 微系统技术（连载三）──光刻工艺[J]. 传感器与微系统, 1995,(6):20.
张光照. 微系统技术（连载三）──光刻工艺[J]. 传感器与微系统, 1995,(6):20. DOI：

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摘要

简要介绍了“三色”双光掩膜光刻工艺、廉价一步光刻方法和阴影投射光刻工艺。

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